RF-Plasma-Ätzer

K1050X von Quorum Technologies

Die K1050X ist ein kompaktes RF-Plasmagerät (RF: Radiofrequenz) mit horizontalem Glasreaktor für den Laborbetrieb und die Kleinserienanwendung. Die 13.56MHz-Generator-Technik ist ideal für Plasmaätzung (Mikrosandstrahlen) und Reinigung mit Argongas.

Features
Geeignet für Ätzen / Veraschen / Reinigen
Glasreaktor mit Probenschublade für einfaches Befüllen
Automatische Leistungsabstimmung durch Mirko Controller
Zwei Gas-Durchflussmesser – für Gasmischung
13,56 MHz-Generator - ideal für Anwendungen mit Argon

Die K1050X ist arbeitet vollautomatisch. Die Parameter für die Zeit, Leistung (Watt) und Vakuum sind leicht eingestellt und können während des gesamten Prozesses überwacht und verändert werden. Die Leistung von bis zu 100W bei 13,56 MHz (RF: Radiofrequenz) kann stufenlos geregelt werden. Die automatische Abstimmung von Leistung und der Reflexion wird durch den eingebauten Mirko Controller gesteuert und kann in der LCD-Digital-Anzeige jederzeit abgelesen werden.

Die horizontale K1050X- Glasreaktorkammer (Borosilikatglas) hat einen Durchmesser von 110 mm und eine Länge von 160 mm. Die Kammer verfügt außerdem über eine ausziehbare Probenschublade und Sichtfenster zur visuellen Prozesskontrolle. Zwei Gase können mit Hilfe der eingebauten Durchflussmesser mit Magnetventilen eingegeben und dosiert werden.

Optionen:

  • K1050XT- eine turbomolekulargepumpte Version ist ebenfalls verfügbar
  • Quarzglasreaktor & Reaktortür- für den Einsatz von aggressiven Gasen
  • Kapazitätsmanometer - für den Einsatz von aggressiven Gasen
  • TEM-spezifischer Vakuumport für TEM-Probenhalter durch Umbau der Schubladen-Reaktortür
Maße und Gewicht450 mm x 350 mm  x 300 mm (BxTxH),  40 kg
KammerdimensionenBorosilikatglas 110 mm Ø x 160 mm T. (nicht für aggressive Gase wie CF4
ReaktorTür mit Schublade zur einfachen Beladung/Entnahme
PlasmageneratorLeistung bis max. 100 W @ 13,56 MHz, automatische Feinabstimmung für Eingangs- & Ausgangsleistung
VakuummessröhreVakuumbereich 1x103 – 1 x10-5 mbar
Bedienung/KontrollenKontrolle für Ausgangsleistung und verbleibende Zeit über LCD-Display-Einknopfbedienung mit automatischem Prozessablauf nach Voreinstellungen, 10 Programme dauerhaft speicherbar, einstellbare Prozessdauer von 1 Minute - 99,99 Stunden, digital
GasdurchflussmesserKontrolle von 2 Reaktionsgasen mit 2 Gasdurchflussmessern, einzeln oder gleichzeitig einsetzbar
Stromversorgung230 V/50 Hz (5  A max inkl. Pumpe), 115 V/60 Hz (10 A max. inkl. Pumpe)
Prozessgasdrucknominal 0.33 bar (5 psi)
VakuumpumpeBenötigt eine Rotationspumpe mit einer Leistung von 50 l/min. oder mehr. Eine spezielle Version ist für Sauerstoffgas-Anwendungen notwendig
EK3158K1050X (Rotationspumpe erforderlich – siehe Zubehör)
EK3161K1050XT Leistungsbeschreibung wie K1050X
aber inkl. integrierter 60 l/s Turbomolekularpumpe
Zubehör/Optionen
VTM-Duo5Pfeiffer DUO 5
EK3171Edwards Scroll pump
EK4222Quarzglasreaktortür und Kammer (für aggressive Gase)
Asbestos and man-made mineral fiber detection using plasma ashing preparation techniques
Plasma etching (removal) of photoresist and epilayers
Veraschen von organischen Proben
Surface treatment of plastics for hydrophobic to hydrophilic conversion
Improving painting and inking characteristics of plastics
Isotropes Ätzen oder Strukturieren von Oberflächen mittels Argonplasma
Reinigung von TEM-Blenden und allen Probenoberflächen
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